30 Sep Scan Objektive für die Stereolithographie
Sponsored Post – Die Stereolithographie ist ein industrielles additives Fertigungsverfahren, das gerade für den Bau von Prototypen besonders häufig genutzt wird. Es eignet sich insbesondere für komplizierte Oberflächen, da diese ebenso schnell wie einfache Geometrien gefertigt werden können.
Dabei wird ein Bauteil auf der Grundlage einer CAD-Datei schichtweise aufgebaut, indem bestimmte Flächen in einem Kunststoffbad, meist aus künstlichen Harzen, ausgehärtet werden. In einem ersten Schritt werden die notwendigen Stützstrukturen gefertigt, welche im Nachgang wieder entfernt werden müssen. Anschließend kann der Prototyp selbst hergestellt werden. Dafür wird ein Laserstrahl genutzt, der das Material im Fokus aushärtet. Ein Scanner lenkt den Laserstrahl dabei aus, damit das gesamte Bauteil schnell abgefahren und ausgehärtet werden kann. Die nachgeschaltete f-Theta Optik fokussiert den Laserstrahl auf einem ebenen Feld. Sobald eine Schicht fertiggestellt wurde, wird das Kunststoffbad nach unten abgesenkt und die nächste Schicht ausgehärtet.
Je kleiner der Fokusdurchmesser dabei ist, desto filigraner und genauer kann gefertigt werden und desto schärfere Kanten und glattere Übergänge können ohne zusätzliche Nacharbeit erzeugt werden. Zusätzlich ist ein ausgedehntes Scanfeld hier von enormer Bedeutung, da somit ausgedehnte Bauteile am Stück gefertigt werden können.
Das Objektiv S4LFT1655/328 wurde für derartige Anwendungen designet. Große Eingangsstrahldurchmesser von 20 mm ermöglichen einen kleinen Fokusdurchmesser von unter 75 µm im Bereich des gesamten Scanfelds. Dabei ist die Abhängigkeit des Fokusdurchmessers von der Feldposition gering, wodurch eine gleichermaßen hohe Qualität auf dem gesamten Bauteil erzielt wird. Das ausgedehnte Scanfeld von 410 mm x 410 mm erlaubt die Fertigung von sehr großen Bauteilen. Es handelt sich hierbei um ein nicht-telezentrisches Objektiv mit einer langen Brennweite von knapp 650 mm, wodurch ein maximales Scanfeld erreicht werden kann. Das Objektiv ist frei von internen Rückreflexen, weshalb es auch für Hochleistungslaser geeignet ist.
Ist das Objektiv auf Grund bestimmter Spezifikationen dennoch für Ihre Lithographieanwendung ungeeignet? Dann schreiben Sie uns bitte eine Mail mit Ihren Spezifikationen. Unser Technikteam ist gerne bereit, für Sie ein geeignetes Objektiv aus unserem Portfolio zu suchen oder eine auf Ihre Bedürfnisse angepasste Sonderanfertigung zu designen.
