28 Jul Photonik und HF-CMOS auf Si-Wafer kombiniert
GF Fotonix, die monolithische Plattform der nächsten Generation von GlobalFoundries (GF), ist nach Unternehmensangaben die erste in der Branche, die ihre differenzierten 300-mm-Photonik- und HF-CMOS-Funktionen auf einem Siliziumwafer kombiniert. Siemens Digital Industries Software gab bekannt, dass Designer nun ihre Calibre-nmPlattform mit dieser Silizium-Photonik-Plattform nutzen können.
Die Process Design Kits (PDKs) für GF Fotonix enthalten die Software Calibre-nmDRC von Siemens zum Design Rule Check (DRC) und die Software Calibre-LVS für die Layout-versus-Schematic-Verifikation (LVS). Beide Calibre-Werkzeuge sind von GF zertifiziert, sodass gemeinsame Kunden, die für die neue Fotonix-Plattform entwickeln, weiterhin die bewährte Calibre-nmPlatform für Silizium-Photonik-Bauteile verwenden können.
Komplexe Prozesse, die zuvor auf mehrere Chips verteilt waren, können laut Anbieter nun auf einem einzigen Chip kombiniert werden, indem sich mittels GF Fotonix ein photonisches System, Hochfrequenz-Komponenten (HF) und eine leistungsstarke komplementäre Metalloxid-Halbleiter-Logik (CMOS) auf nur einem Siliziumchip zusammenführen lassen.
Silizium-Photonik-Bauteile werden häufig in einem einzelnen Die auf einem bestimmten Prozessknoten implementiert und dann mit den übrigen Designkomponenten in mehreren Dies unter Verwendung heterogener Packaging-Technologien gestapelt und gepackt. Durch die Nutzung des Calibre-Kernangebots soll sich die Gesamtzeit der Verifikation erheblich reduzieren lassen.
Die Kombination der Calibre-Tools von Siemens, sowohl für die Designverifikation als auch für den Post-Tape-out-Betrieb, mit der GF-Fotonix-Lösung soll Designern nach Angaben der beiden Unternehmen helfen, leistungsstarke, flexible und energieeffiziente Lösungen, die in Rechenzentrums-, Computer- und Sensoranwendungen erforderlich sind, effizient zu gestalten.
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Weitere Informationen zu GF Fotonix vom Anbieter
Quelle und Bild: eda.sw.siemens.com
Kooperationspartner: gf.com
