Technologieforum Laser Photonik

Apochromatisch korrigiertes Weitfeld-Mikroskop­objektiv

Ecelitas präsentiert ein neues apochromatisch korrigiertes Zehnfach-Weitfeld-Mikroskopobjektiv für große Objekt- und Sensorgrößen. Das Optem 10X M Plan Apo bietet nach Angaben des Herstellers eine gleichförmige Abbildungsleistung, die sich für präzise optische Inspektionen eignet. Es unterstützt auch Sensoren mit mehr als 30 mm Diagonale. 

Mit der hohen numerischen Apertur von 0,28 erreicht es Auflösungen bis 1 µm bei einem Arbeitsabstand von 34 mm. Das Design wurde für große und flache Sichtfelder optimiert und liefert nach Aussage des Herstellers eine homogene Auflösung und hohe Kontraste über das gesamte Bildfeld. Das auf unendlich korrigierte Objektiv hat eine parfokale Entfernung von 95 mm.

Dem Hersteller zufolge lässt sich das Weitfeldobjektiv in verschiedenen Mikroskopiesystemen einsetzen, beispielsweise dem Optem Fusion von Excelitas. Anwendungen liegen im Halbleiter-Backend-Prozess, in der Elektronik­inspektion oder bei anspruchsvollen Forschungsaufgaben, bei denen Bildqualität oder hoher Durchsatz entscheidend sind. 

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Direkter Download-Link zum Datenblatt (PDF)

Download-Link zum Technischen-Hinweis-Dokument des Optem 10X

 

Quelle und Bild: www.excelitas.com